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一，主要用途：

? 廣泛用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、陶瓷、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、不銹鋼，光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。

二，工作原理：

? 本平面拋光機(jī)為精密研磨拋光設(shè)備，被磨、拋材料放于研磨盤(pán)上，研磨盤(pán)逆時(shí)鐘轉(zhuǎn)動(dòng)，修正輪帶動(dòng)工件自轉(zhuǎn)，重力加壓的方式對(duì)工件施壓，工件與研磨盤(pán)作相對(duì)運(yùn)轉(zhuǎn)磨擦，來(lái)達(dá)到研磨拋光目的。

三，特點(diǎn)：

? ?1．采用間隔式自動(dòng)噴液裝置，可自由設(shè)定噴液間隔時(shí)間。

? ?2. ?該拋光機(jī)工件加壓采用氣缸加壓的方式，壓力可調(diào)；?拋光后工件表面光亮度高、無(wú)劃傷、無(wú)料紋、無(wú)麻點(diǎn)、不塌邊、平面度高等特點(diǎn)。拋光后工件表面粗糙度可達(dá)到Ra0.0002；平面度可控制在±0.002mm范圍內(nèi)。

? ?3．該拋光機(jī)采用PLC程控系統(tǒng)，觸摸屏操作面板，研磨盤(pán)轉(zhuǎn)速與定時(shí)可直接在觸摸屏上輸入。

四，技術(shù)參數(shù)：

五，雙面研磨機(jī)的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)如下：

1.系列雙面研磨機(jī)運(yùn)行采用四臺(tái)電機(jī)驅(qū)動(dòng)，可以給上研磨盤(pán)、下研磨盤(pán)、齒圈、太陽(yáng)輪單獨(dú)進(jìn)行調(diào)速，使研磨達(dá)到 理想的轉(zhuǎn)速比，其太陽(yáng)輪相對(duì)與其它三個(gè)轉(zhuǎn)速的速比可作無(wú)級(jí)調(diào)速，使游輪可實(shí)現(xiàn)正轉(zhuǎn)、反轉(zhuǎn)，滿(mǎn)足了不同研磨及修盤(pán)工藝的需求。

2.雙面研磨機(jī)采用PLC程控系統(tǒng)，觸摸屏操作面板，電機(jī)采用變頻調(diào)速，電機(jī)轉(zhuǎn)速與運(yùn)行時(shí)間可直接輸入觸摸屏。

3.研磨機(jī)采用四段壓力，即輕壓、中壓、重壓、修研的運(yùn)行過(guò)程。

4.雙面研磨機(jī)為下研磨盤(pán)升降方式，下研磨盤(pán)的高低位置可在總行程范圍內(nèi)隨意停留自鎖，以滿(mǎn)足改變游輪嚙合高低位置的需要。

5.可根據(jù)用戶(hù)要求增加光柵厚度控制系統(tǒng)，加工后的產(chǎn)品厚度公差可控制在±0.002mm范圍內(nèi);平面度公差可控制在±0.001mm范圍內(nèi)。

當(dāng)雙面研磨機(jī)的上下研

磨盤(pán)工作一段時(shí)間后，研磨盤(pán)會(huì)受到一定程度的損傷了，為了***研磨盤(pán)的表面精度加工能力，我司為雙面研磨機(jī)增加了可以對(duì)上下研磨盤(pán)進(jìn)行修正的修面機(jī)或修正輪。